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EUVリソグラフィ
とは 【超紫外線露光技術】 (Extreme Ultraviolet
...
EUVリソグラフィ
とは:極めて波長の短い超紫外線を用いて、シリコンウエハに微細な回路イメージを焼き付ける技術。電子ビーム
リソグラフィ
と並んで、次世代コンピュータ
チップ
開発のための有望な技術とされている。現在
チップ
製造に用いられているの ...
超紫外線露光技術とは 【
EUVリソグラフィ
】 - 意味/解説/説明/定義
...
超紫外線露光技術
とは:極めて波長の短い超紫外線を用いて、シリコンウエハに微細な回路イメージを焼き付ける技術。電子ビーム
リソグラフィ
と並んで、次世代コンピュータ
チップ
開発のための有望な技術とされている。現在
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製造に用いられているの ...
紫外線 - Wikipedia
研究段階では
EUV
、X線を用いた
露光装置
もある。 この様なフォト
リソグラフィ
は
半導体
や
IC
のみならず、プリント基板の製造においても使用されており、紫外線はエレクトロニクス産業では広く使用されている。 ...
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