超紫外線露光技術 | ASAHIネット

超紫外線露光技術に関するインターネット検索結果

超紫外線露光技術とは 【EUVリソグラフィ】 - 意味/解説/説明/定義 ...

超紫外線露光技術とは：極めて波長の短い超紫外線を用いて、シリコンウエハに微細な回路イメージを焼き付ける技術。電子ビームリソグラフィと並んで、次世代コンピュータチップ開発のための有望な技術とされている。現在チップ製造に用いられているの ...

EUVリソグラフィとは 【超紫外線露光技術】 (Extreme Ultraviolet ...

EUVリソグラフィとは：極めて波長の短い超紫外線を用いて、シリコンウエハに微細な回路イメージを焼き付ける技術。電子ビームリソグラフィと並んで、次世代コンピュータチップ開発のための有望な技術とされている。現在チップ製造に用いられているの ...

EUVリゾグラフィ - 意味・説明・解説 : ASCII.jpデジタル用語辞典

いーゆーぶいりぞぐらふぃ 【EUVリゾグラフィ】 Extreme Ultraviolet risography. 超 紫外線露光技術。従来のDUV（遠紫外線）リゾグラフィに比べて、20分の1程度という極めて波長の短い超紫外線を利用することで、非常に微細な回路パターンをシリコン ...