物理気相成長法 | ASAHIネット
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物理気相成長法
物理気相成長法
物理気相成長または物理蒸着(
PVD
:Physical Vapor Deposition)は、物質の表面に薄膜を形成する蒸着法のひとつで、気相中で物質の表面に物理的手法により目的とする物質の薄膜を堆積する方法である。切削工具や各種金型への表面処理や、
半導体
素子の製造工程に於て一般的に使用される。
「
物理気相成長法
」『フリー百科事典
ウィキペディア
日本語版』(
http://ja.wikipedia.org/
)。2009年7月28日15時(日本時間)現在での最新版を取得。
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